ワイドギャップⅢ族窒化物半導体の研究
赤﨑 勇
窒化ガリウム(GaN)系半導体の結晶成長法を長年にわたって研究し、高品質な結晶の実現と、電気伝導性の制御(p-n接合の実現)に世界で最初に成功した。この研究により、GaN系半導体による高性能青色/紫色発光ダイオードおよびレーザーの実現の基礎を築いた。
本研究の成果に対して、東レ科学振興会は、2000年、「赤﨑 勇(名城大学)」に東レ科学技術賞を贈った。
本研究の成果に対して、東レ科学振興会は、2000年、「赤﨑 勇(名城大学)」に東レ科学技術賞を贈った。
分野のカテゴリ
材料関連
(材料関連)
(材料関連)
関連する出来事
データなし
世の中の出来事
データなし
Webページ
データなし
博物館等収蔵品
データなし
キーワード
青色発光ダイオード、青色半導体レーザー、GaN系ワイドギャップ半導体、短波長半導体レーザー