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ウルトラクリーン化技術と次世代半導体生産技術の開発

 超LSI(超大規模集積回路)は高度情報化社会を支えるエレクトロニクス製品で、これを生産する半導体製造技術は現代産業の基幹技術となっています。特に超高密度チップを製造するには、歩留まりのよい高性能半導体プロセス技術の確立が待たれていました。

 超LSIの性能や歩留まりが製造プロセスで混入する極微量の不純物に左右されるので、この研究開発では、できる限り不純物を排除するウルトラクリーンルームシステムを作り上げました。それは超高純度ガス技術や超純水技術、超高純度薬品技術などを集大成したもので、スーパクリーンルーム建屋の空調、除塵、防振、帯電防止にも及んでいます。

 このウルトラクリーンルームが実現したことで低温半導体製造プロセスが可能となり、ガラス基板上に半導体デバイスをつくる液晶フラットパネルディスプレイの生産の基盤技術にもなっています。このほか超純水や薬品の使用量を大幅に減らせる新しい洗浄方法の開発、薬品の回収/再利用の技術も実用化し、省資源と環境保全にも配慮した半導体生産技術となりました。



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スーパクリーンルーム、ウルトラクリーン化技術、その他(電子・デバイス一般)
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