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MOS型集積回路の製造プロセス・デバイス設計支援技術の開発

皆さんの身の回りの電化製品には、半導体を用いた集積回路が組み込まれています。その中には1平方センチメートルほどの面積の半導体の板の上に、トランジスタとよばれる部品が何億個も作りこまれており、それぞれが電気の流れを調節することで、とても複雑な電気信号の処理を行っています。現在の集積回路に用いられているトランジスタの大きさは、0.00001センチ以下、当然ながら目に見えないとても小さな部品を、技術者達はどのようにして設計するのでしょうか?実は、そこで活躍するのがコンピュータを用いたシミュレーション技術です。基本的な物理法則や、多くの先輩方によって培われた経験をコンピュータプログラムに組み込むことで、ウイルスより小さなナノスケールとよばれる領域の様子を、あたかもその世界に入り込んだように画面上に再現します。電子部品をどう作りこむのか、またその中ではどのように電気が流れるのか、といった人間の想像力をはるかに超える事象を、技術者達はコンピュータの力を借りながら理解して設計に役立てているのです。このようにしてより強力な集積回路やコンピュータが作られ、さらにそれを用いると、より正確なシミュレーションが可能となります。この良い循環が、今日の高度に発達した情報化社会の実現の礎となったとも言えるでしょう。


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キーワード

MOS型集積回路、TCAD技術、プロセス・デバイスシミュレーション
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